主要用途
常用作薄膜涂層。具有高的硬度和良好的耐磨性,是一種很受重視的耐磨涂層。用空心陰極離子鍍制備的氮化鉻膜具有Cr+Cr2N兩相組織,晶粒度為20~70nm,硬度為HV22GPa。經(jīng)真空退火后,能提高到HV35.4GPa。其耐磨性優(yōu)于CrC膜。反應(yīng)濺射法氮化鉻膜能得到Cr+Cr2N或單相CrN兩種組織,其硬度均在HV20~25GPa(塊體CrN硬度HV11GPa)。用作耐磨涂層。
合成方法
1.將低碳鉻鐵在真空加熱爐于1150℃氮化得到粗氮化鉻鐵,再經(jīng)硫酸處理,除去鐵雜質(zhì)。經(jīng)過濾、水洗、干燥,即得氮化鉻。也可由氨和鹵化鉻反應(yīng)制得。
2.將高純度電解鉻粉末,在150mmHg(1mmHg=133.322Pa)柱的氮?dú)饬髦,?060℃下加熱160h之后,排出氮?dú)獠⑦M(jìn)行急冷,則制得Cr2N。
3.低碳鉻鐵碎至<3mm,取1000kg在真空加熱爐于1150℃及氮壓0.0987MPa氮化24h,得到粗氮化鉻鐵。冷后粉碎至<0.3mm,。保埃埃埃耄缭冢梗担啊嬖俅芜M(jìn)行氮化(其他條件同前)。冷后粉碎至<0.3mm,放進(jìn)1m3反應(yīng)器,用硫酸處理16h,將鐵溶除。過濾、水洗、干燥。回收109kg氮化鉻,含Cr78.6%,N219.7%,O20.80%,Fe0.59%,C0.13%。也可由氨和鹵化鉻反應(yīng)制得。